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二手16B宇晶雙面拋光機-平面研磨機轉讓

  • 產品報價:¥ 2.5萬 /臺
  • 供 貨 量:6臺
  • 更新時間:2022年06月06日
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  • 參數說明
一、用途及特點本機用于半導體材料、光學玻璃、磁性材料、介質、壓電材料、多晶體材料、非多晶體材料等各種功能陶瓷材料的精磨和拋光。本機采用周輪輪系運動原理,變頻調速,分別拖動上、下盤、太陽輪、內齒圈按一定速比轉動。采用高性能的PLC裝置,外圍配各高品質的進口控制器件,實現控制的高可靠性。彩色觸摸屏,存有多種成熟的加工參數,獨特的人機界面設計,操作更加方便。加工過程中根據工藝要求,可實現分段線性調壓,對工件的施壓壓力進行動態檢測,實現全過程數字監控,主要運動副實現手動加壓潤滑油,導軌運動方式采用本公司自有創新技術,使拋光盤既具有極高的剛性,又能保證設備運行的平穩性,提高了拋光盤面形精度及零件的加工精度。二、技術參數參數\名稱15B18B20B最大加工壓力350kg400kg500kg工作壓力范圍0~350kg0~400kg0~500kg大盤尺寸(mm)拋光:上盤1070*495*50下盤1070*495*50精磨:上盤1050*505*50下盤1050*505*50拋光:上盤1280*394*50下。 詳細介紹>>
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